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高溫超導帶材卷對卷離...高溫超導帶材卷對卷離子束輔助沉積系統（Roll-to-Roll Ion Beam Assisted Deposition System for HTS Tape）是面向di二代高溫超導帶材（REBCO 涂層導體）緩沖層制備的專業薄膜沉積裝備
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三靶磁控濺射鍍膜儀半導體硅片 Al/Ti 金屬薄膜磁控濺射鍍膜工藝怎么實現 磁控濺射制備 Ti 粘附層 Al 導電層工藝參數 硅基晶片上 Al/Ti 多層薄膜制備難點 雙靶磁控濺射交替沉積 Ti/Al 薄膜實驗方案
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5Kg粉體磁控濺射鍍...5Kg 粉體磁控濺射鍍膜儀是大容量粉體顆粒專用真空 PVD 包覆設備，專為單次裝載 5kg 粉末物料設計，依托磁控濺射物**相沉積原理，配合腔體旋轉、粉體翻滾振動機構，讓粉體顆粒持續翻動、無死角滾動，在每一顆粉體表面均勻沉積金屬、合金、陶瓷、氧化物納米薄膜
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卷對卷纖維連續性蒸發...卷對卷纖維連續性蒸發鍍膜儀是一款專為柔性纖維基材研發的真空連續鍍膜智能化設備，基于卷對卷（R2R）真空蒸發鍍膜核心工藝，突破傳統間歇式鍍膜設備的生產局限，可實現纖維基材放卷、真空預處理、連續蒸發鍍膜、膜層固化、精準收卷的全自動化閉環連續生產
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換位自轉等離子鍍膜儀本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位，樣品臺可在兩個靶位自由切換，本設備體積小巧造型美觀功能強大，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉加熱樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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四噴頭超聲波勻膠機旋...四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設備。它解決了傳統勻膠技術在三維、異質集成和昂貴材料應用中的根本性瓶頸，是推動先進半導體、MEMS和下一代顯示技術發展的關鍵工藝裝備之一。
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真空氣氛爐：現代材料制備中的關鍵設備在材料科學與工業制造領域，許多工藝...[詳情]
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